溅射设备

提供可承受高温和活性气体的磁流体密封。

理学磁流体密封理学的磁流体密封件在太阳能电池、触控面板和平板显示器所需的生产透明导电膜和抗反射膜的溅射设备上,有丰富的生产业绩和经验。
可适用于对向靶法、离子束法、磁控管法、ECR法、反应喷射法等各种方式的溅射设备的需求。

在使用磁铁的磁流体密封件中,泄漏磁通量被认为是无法避免的。但理学的磁流体密封由于其独特的结构没有磁场泄漏。
理学的磁流体密封的外壳相距10mm以上,不受自然磁场的影响。因此您可以放心使用,而不必担心对等离子体离子和电子的影响。

适合于溅射设备的磁流体密封

为避免金属污染,我们推荐使用悬臂式 FMB-C 系列悬臂式 F1B-C 系列,它们在真空侧没有轴承。
另外,电极和冷却机构等可以通过旋转轴的空心轴类型的磁性流体密封。推荐使用悬臂式F1T-C系列

选择时要注意工作温度范围和负载。
如果您需要特殊规格,请使用磁性密封咨询表与我们联系。

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